金融界2025年7月30日消息，国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“具有电阻式和辐射式加热的基座和喷头”的专利，公开号CN120390827A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，一种衬底处理系统包含用于支撑衬底的基座、安置在基座中的电阻式以加热衬底的加热器、以及安置在基座中以加热衬底的辐射式加热器。一种衬底处理系统包含具有面板的喷头以及安置在喷头中的辐射式加热器。该面板包含多个通孔。该辐射式加热器包含与该面板的该多个通孔有间隙地布置的多个光学元件。一种衬底处理系统包含用于支撑衬底的基座、安置在基座中以加热衬底的电阻式加热器、安置在基座中以加热衬底的第一辐射式加热器、与基座分开的喷头、以及安置在喷头中以加热衬底的第二辐射式加热器。